外延生长是在单晶衬底上按其晶向生长新单晶薄膜的工艺,可制造不同化学组分多层膜,便于后期器件制作。其主要方法有 MOCVD 和 MBE,前者适用于批量生产,后者多用于科研。按工艺可分为气相外延(VPE)、液相外延(LPE)、固相外延(SPE)和分子束外延(MBE)等,其中 VPE 用于硅的外延,LPE 适用于 II-V 族化合物,SPE 常见于离子注入退火过程,MBE 需超真空蒸发。外延层具有缺陷少、可实现原位均匀掺杂等优势,还能制备超晶格结构及 GaAs HEMT、LED 等器件所需的特定结构层。
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