片上偏差模式OCV,AOCV,SOCV

本文详细介绍了片上偏差模式OCV, AOCV, SOCV的概念及其在静态时序分析中的应用。OCV是传统工艺参数波动分析,AOCV引入动态derate因子以适应路径深度和距离的影响,而SOCV进一步基于统计学概率分布模拟工艺偏差,提供更精确的时序分析。AOCV和SOCV旨在解决OCV的局限性,如计算量大、过度悲观等问题。" 111893576,10535564,Pepper情感机器人:两年发展历程与未来展望,"['服务机器人', '情感识别', '人工智能', 'IBM Watson', '消费级市场']

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片上偏差模式OCV,AOCV,SOCV

OCV:On Chip Variation
AOCV:Advance On Chip Variation
SOCV:Statistic On Chip Variation
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论STA | POCV/SOCV 对lib 的要求

静态时序分析基本方法

一、片上偏差模式OCV,AOCV,SOCV

OCV又称片上偏差模式,传统的PVT条件的时序分析仅能表征全局波动,忽略了局部波动,但随着工艺特征尺寸不断减小,局部波动越来越重要。

全局波动:整个芯片上的工艺参数波动,指wafer to wafer,die to die的波动。。
局部波动:同一个die上的不同晶体管的工艺参数不一样。

标准OCV模式:读入两套时序库,一般为最好和最差两套库。在进行建立时间和保持时间进行分析时,将时序路径的发射路径和捕捉路径分开考虑。OCV模拟最悲观的情况进行仿真。针对建立时间分析时,发射路径用最差时序库,捕捉路径用最好时序库。针对保持时间来说,反之。

但仅通过读入的时序库组成的工艺角无法满足设计需求,在实际的OCV模式下设置一个全局偏移因子derate,模拟多个工艺角的局部工艺参数波动情况。

二、AOCV

AOCV是在OCV模式基础上发展和改进的。在OCV中设置了一个全局偏移因子增加悲观量,这一悲观量会作用在时序路径的所有物理单元,导致在较长的时序路径上引入过多悲观量。并且实际的所有标准单元的延时都朝

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