片上偏差模式OCV,AOCV,SOCV
OCV:On Chip Variation
AOCV:Advance On Chip Variation
SOCV:Statistic On Chip Variation
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论STA | POCV/SOCV 对lib 的要求
一、片上偏差模式OCV,AOCV,SOCV
OCV又称片上偏差模式,传统的PVT条件的时序分析仅能表征全局波动,忽略了局部波动,但随着工艺特征尺寸不断减小,局部波动越来越重要。
全局波动:整个芯片上的工艺参数波动,指wafer to wafer,die to die的波动。。
局部波动:同一个die上的不同晶体管的工艺参数不一样。
标准OCV模式:读入两套时序库,一般为最好和最差两套库。在进行建立时间和保持时间进行分析时,将时序路径的发射路径和捕捉路径分开考虑。OCV模拟最悲观的情况进行仿真。针对建立时间分析时,发射路径用最差时序库,捕捉路径用最好时序库。针对保持时间来说,反之。
但仅通过读入的时序库组成的工艺角无法满足设计需求,在实际的OCV模式下设置一个全局偏移因子derate,模拟多个工艺角的局部工艺参数波动情况。
二、AOCV
AOCV是在OCV模式基础上发展和改进的。在OCV中设置了一个全局偏移因子增加悲观量,这一悲观量会作用在时序路径的所有物理单元,导致在较长的时序路径上引入过多悲观量。并且实际的所有标准单元的延时都朝