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• 发布了文章 2025-08-19 10:31

  泽攸科技 | 台阶仪：微观形貌的精密解析工具 —— 原理、技术与产业化应用

  

  在精密制造与前沿科研领域，微观表面形貌的量化表征是保障产品性能与推动技术创新的关键环节。台阶仪作为一种高精度表面测量仪器，通过对样品表面高度差、粗糙度及薄膜厚度等参数的精确获取，为半导体、纳米材料、光学工程等领域提供了不可或缺的技术支撑。

  测量仪 测量设备 精密测量

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• 发布了产品 2025-08-15 15:14

  电子束光刻机

  

  产品型号：ZEL304G 标配：激光干涉样品台 样品台行程：≤105 mm 图像分辨率：≤1nm @ 15 kV；≤1.5 nm @ 1kV

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• 发布了产品 2025-08-15 15:11

  DMD无掩膜光刻机

  

  产品型号：ZML 紫外光源中心波长：405 nm 曝光均匀度：90%以上 最小特征线宽：0.5um

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• 发布了产品 2025-08-15 15:09

  全自动台阶仪JS2000C/3000C

  

  产品型号：JS2000C/3000C 台阶高度最大范围：160um 台阶高度重复性：≤0.5nm 探针加力范围：0.5mg~50mg

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• 发布了产品 2025-08-15 15:07

  半自动台阶仪JS100C/200C/300C

  

  产品型号：JS100C/200C/300C 样品尺寸：6寸（JS100C）/ 8寸（JS200C）/ 12寸（JS 重复性测量偏差：≤0.5nm(1o lum标准块重复扫描30次) 注释：详情咨询泽攸科技

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• 发布了产品 2025-08-15 15:05

  手动台阶仪JS10C

  

  产品型号：JS10C 型号：JS10C

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• 发布了产品 2025-08-15 15:02

  ZEM Pro单晶灯丝台式扫描电镜

  

  产品型号：ZEM Pro 分辨率：优于3nm 放大倍数：360000

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• 发布了产品 2025-08-15 11:46

  ZEM20台式扫描电镜

  

  产品型号：ZEM20 分辨率：优于4nm 放大倍数：360000

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• 发布了产品 2025-08-15 11:38

  ZEM Ultra场发射台式扫描电镜

  

  产品型号：ZEM Ultra 分辨率：优于2.5nm 放大倍数：100万倍

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• 发布了文章 2025-08-14 10:07

  泽攸科技 | 电子束光刻（EBL）技术介绍

  

  电子束光刻（EBL）是一种无需掩模的直接写入式光刻技术，其工作原理是通过聚焦电子束在电子敏感光刻胶表面进行纳米级图案直写。

  光刻机 电子束

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